[반도체실무과정] 8대공정 : 불순물 주입 및 확산 공정

반도체

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진도80%이상

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중소기업: 원 / 중견기업: 원 / 대기업: 원

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강의목표

- 반도체 8대공정 중 불순물 주입 및 확산 공정에 대해 설명할 수 있습니다.

- CMOS 소개와 Implant 용어를 학습합니다.
- 이온주입의 개요에 대해 학습합니다.
- 이온주입 시 발생하는 격자손상과 치유 방법에 대해 학습합니다.

- 반도체 제조 공정 관련 직무 종사자

학습방법 : html5
학습정원 : 150명

훈련수강 중 수강포기한 경우 지원한도액이 차감됩니다.

수강포기 횟수	1회	2회	3회 이상
지원한도액 차감	20만원	50만원	100만원

[반도체실무과정] 8대공정 : 불순물 주입 및 확산 공정: 1. CMOS 소개와 Implant 용어 정리; 2. 이온 주입의 개요; 3. 이온 주입에 의한 농도분포; 4. Ion Implant Channeling; 5. 결함의 발생과 Annealing (1); 6. 결함의 발생과 Annealing (2); 7. 집적회로에의 응용; 8. Process Evaluation & Technology Trend; 9. Diffusion의 개요; 10.산화공정 개요; 11.Si,SiO₂ 계면과 산화막의 용도; 12.산화 속도의 영향 요소와 SiO₂,Si 계면 전하; 13.불순물의 재분포와 Oxide Quality 요구 조건; 14.확산의 정의; 15.ANNEAL; 16.확산 공정의 측정, 평가 및 불량 유형